Das Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST entwickelt zurzeit neue Beschichtungsverfahren und Schichtsysteme, mit denen sich die Kosten für Solarzellen deutlich senken lassen sollen. Die neuen Verfahren betreffen zum einen sogenannte HIT-Zellen, deren Beschichtung im CVD-Verfahren offenbar mithilfe von heißen Drähten möglich ist.
Während das bisherige Verfahren der chemischen Gasphasenabscheidung mit Plasma den allergrößten Teil des teuren Gases (Silan) ungenutzt lässt, sei die Effektivität des neuen Beschichtungsverfahrens im Durchlauf beschichtet, wesentlich effektiver – und obendrein preisgünstiger. Ein weiterer Vorteil: Da die Technologie deutlich einfacher ausfalle als beim Plasma-CVD seien die Produktionsanlagen selbst auch wesentlich preiswerter.
Parallel dazu stellt das Fraunhofer-Institut vor, wie sich auf HIT-Zellen die benötigten transparenten leitfähigen Schichten aufbringen lassen: Im Sputter-Verfahren konnten die Wissenschaftler die normalerweise verwendeten keramischen Platten durch metallische Platten ersetzen und so die Kosten für den Herstellungsprozess um 35 % senken.
Das Fraunhofer IST stellt einige der aktuellen Ergebnisse auf der morgen beginnenden EU PVSEC (25.–28. September 2012) in Frankfurt vor. Die European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition ist gleichzeitig internationaler PV-Fachkongress und führende Industriemesse. Mehr dazu erfahren Sie im Schwerpunktbeitrag EU PVSEC 2012. (Quelle: Fraunhofer IST/hw)
